在传统电子显微镜中，对磁性材料进行原子分辨率的观察特别困难，因为高磁场不可避免地施加在磁性物镜内的样品上。新开发的磁物镜系统为样品位置提供了一个无磁场环境。这使得直接，原子分辨率成像的磁性材料，如硅钢。这种新型电子显微镜有望广泛应用于先进磁性材料的研究和开发。在日本科学技术厅JST-SENTAN项目下，东京大学Shibata Naoya教授和JEOL Ltd：
联合开发团队开发了一种革命性的电子显微镜，新型电子显微镜结合了新设计的磁性物镜，实现了对材料的亚空间分辨率直接原子分辨率成像，在试样位置处残余磁场小于0.2 mT。据我们所知，这是第一次实现这一目标。自1931年透射电子显微镜(TEM)开创性发明以来的88年里，研究人员一直在追求更好的空间分辨率。设计小透镜像差系数的磁性物镜是必要的。
用于扫描TEM (STEM)像差校正透镜系统已达到亚空间分辨率。目前用于原子分辨率TEMs/ stem磁凝物镜系统的一个关键缺点是，样品必须插入高达2-3 t非常高的磁场中。如此高的磁场会严重阻碍许多重要的软硬磁性材料原子分辨率成像，比如硅钢，因为强磁场会极大地改变甚至破坏材料的磁性，有时甚至是物理结构。近年来，新型磁性材料的发展迅速。由于原子尺度结构分析是上述技术的关键，长期以来一直需要解决这一问题。
联合研究小组已经开发出一种新的无磁场物镜系统，其中包括两个圆形物镜，它们的位置与样品平面镜像对称。这种新透镜系统在样品位置提供极小的剩余磁场，同时将强激发的前/后物镜放置在离样品足够近的位置，获得原子分辨率成像所必需的短焦距条件。因此，样品中心附近产生的残余磁场远小于0.2 mT，是常规原子分辨率TEM/STEM成像磁性物镜值的1万倍。联合研究小组利用这个新系统观察了硅钢片的原子结构，硅钢片是最重要的软磁工程材料之一。
这种薄膜被用作变压器和电动机的核心材料，其对单个缺陷的原子分辨率表征一直是人们所追求的。利用新开发的透镜系统，清晰地观察硅钢的分辨原子结构，实现了电子显微镜在无磁场环境下的直接原子分辨成像，实现了磁性材料前所未有的原子级结构表征。新研制的电子显微镜操作方法与传统TEMs/茎秆相同，有望促进各种纳米技术领域的进一步研究和发展。